特点：
       处理能力可靠性高
       宽交叉槽可容纳大量粉尘和颗粒
       精确而闭合的温控系统、高操作温度以及从进口到出口的气体温度的线性增长
       各级采取立式抽吸防止吹扫腔中粉尘聚集
      主要应用于半导体制造

      小巧：ADP/ADS系列2只有约390 mm宽
      洁净：阿尔卡特真空泵无摩擦无须油润滑，也就无粉尘污染的风险。
      安静：阿尔卡特真空泵所有型号均含一台静音装置，无须再安装外部消声装置。
      兼容半导体S2
      价廉物美

      工作压强以及极限压强下低能耗
      ADP/ADS系列2运行温低，用水量非常小。
      用户可轻松设定氮净化水平，应用于清洁环境无须净化。

典型应用工艺：
     ADP 122 LM, ADS 602 LM
     真空进片室，传送室，物理气相沉淀，镀膜
     ADP 122 P, ADS 602 P, ADS 1202 P, ADS 1802 P
     灰化，玻璃拆封，电介质，线蚀刻，注入源，介质化学气相沉淀
     ADS 602 H, ADS 1202 H, ADS 1802 H
     等离子增强化学气相淀积，低压化学气相沉淀